寧波前灣新區(qū)管理委員會官網消息，近日，寧波冠石半導體有限公司迎來關鍵節(jié)點，企業(yè)引入首臺電子束掩模版光刻機。據悉，該設備是光掩模版40納米技術節(jié)點量產及28納米技術節(jié)點研發(fā)的重點設備。作為半導體產業(yè)鏈上游重要的原材料之一，光掩模版是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。目前，我國高精度半導體光掩模版產品主要仍依賴于進口，國產化率極低。據冠石相關負責人介紹，企業(yè)正加速推進海外布局戰(zhàn)略，并在世界一流半導體光掩模版制造技術班底的加持下，預計今年底，企業(yè)將陸續(xù)實現為國內外中高端集成電路掩模版提供制版服務。