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新一代半導(dǎo)體晶體技術(shù)及應(yīng)用大會(huì)濟(jì)南召開(kāi)

發(fā)表于:2024-06-24 來(lái)源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng) 編輯:

?2024年6月22日,“新一代半導(dǎo)體晶體技術(shù)及應(yīng)用大會(huì)在濟(jì)南開(kāi)幕。本次會(huì)議是在第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟、山東大學(xué)指導(dǎo)下,山東大學(xué)新一代半導(dǎo)體材料研究院、山東大學(xué)晶體材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室、濟(jì)南市歷城區(qū)人民政府、山東中晶芯源半導(dǎo)體科技有限公司、山東華光光電子股份有限公司、極智半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)聯(lián)合主辦,并得到了濟(jì)南市政府、山東省科技廳的大力支持。

會(huì)議現(xiàn)場(chǎng)?

中國(guó)科學(xué)院院士,中國(guó)科學(xué)院原副院長(zhǎng),中國(guó)科學(xué)院大學(xué)原黨委、校長(zhǎng),大會(huì)顧問(wèn)李樹(shù)深,中國(guó)科學(xué)院院士、廈門(mén)大學(xué)黨委書(shū)記、大會(huì)主席張榮,中國(guó)科學(xué)院院士江風(fēng)益,第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟理事長(zhǎng)、大會(huì)主席吳玲,山東大學(xué)黨委常委、副校長(zhǎng)蘆延華,山東大學(xué)晶體材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室主任、新一代半導(dǎo)體材料研究院院長(zhǎng)、大會(huì)主席徐現(xiàn)剛,廣州南砂晶圓半導(dǎo)體技術(shù)有限公司董事長(zhǎng)王垚浩,山東華光光電子有限公司董事長(zhǎng)吳德華,濟(jì)南市委副書(shū)記、市長(zhǎng)于海田,濟(jì)南市副市長(zhǎng)謝堃,濟(jì)南市政府秘書(shū)長(zhǎng)韓振國(guó),山東省科技廳二級(jí)巡視員王洪國(guó)等院士、領(lǐng)導(dǎo)、專家,以及相關(guān)部門(mén)負(fù)責(zé)領(lǐng)導(dǎo),產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)高校院所專家、學(xué)者、金融機(jī)構(gòu)代表、產(chǎn)業(yè)界領(lǐng)袖等300余位嘉賓代表出席本次論壇。圍繞碳化硅晶體技術(shù)及其應(yīng)用,氮化鎵、超寬禁帶晶體及其應(yīng)用,砷化鎵、磷化銦晶體及激光器技術(shù),金剛石和半導(dǎo)體測(cè)試技術(shù)等主題,深入探討交流新一代半導(dǎo)體晶體技術(shù)進(jìn)展與發(fā)展趨勢(shì),分享前沿研究成果,攜手助力我國(guó)新一代半導(dǎo)體晶體技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)發(fā)展。濟(jì)南市歷城區(qū)委書(shū)記張軍主持了論壇開(kāi)幕式環(huán)節(jié)。

緊隨時(shí)代焦點(diǎn)前沿 ?深入推進(jìn)科研及產(chǎn)業(yè)新實(shí)踐

新一代半導(dǎo)體作為集成電路產(chǎn)業(yè)的重要組成部分,是國(guó)家“雙碳”戰(zhàn)略的關(guān)鍵支撐,也是保障國(guó)家安全和產(chǎn)業(yè)鏈安全的重要基石。

作為山東省的省會(huì)城市,近年來(lái),濟(jì)南市委市政府聚焦“數(shù)字濟(jì)南”建設(shè),將全面提升集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展水平作為數(shù)字經(jīng)濟(jì)高質(zhì)量發(fā)展的戰(zhàn)略重點(diǎn)。

?張軍

濟(jì)南市歷城區(qū)委書(shū)記張軍主持了論壇開(kāi)幕式環(huán)節(jié)

?于海田

濟(jì)南市委副書(shū)記、市長(zhǎng)于海田致辭

濟(jì)南市委副書(shū)記、市長(zhǎng)于海田致辭時(shí)表示,近年來(lái),濟(jì)南市把發(fā)展新一代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)作為構(gòu)建現(xiàn)代化產(chǎn)業(yè)體系的重要一環(huán),堅(jiān)持“緊盯前沿、龍頭牽引、創(chuàng)新培育、打造生態(tài)、沿鏈謀劃、集群發(fā)展”,加快建設(shè)國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)高地。濟(jì)南具備發(fā)展新一代半導(dǎo)體的產(chǎn)業(yè),人才、技術(shù)優(yōu)勢(shì),行業(yè)影響力和產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力顯著提升,日益成為半導(dǎo)體企業(yè)布局落子、投資興業(yè)的首選之地。產(chǎn)業(yè)的發(fā)展需要各方力量的支持,希望大家積極為濟(jì)南半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展壯大把脈問(wèn)診、建言獻(xiàn)策,將更多創(chuàng)新理念、前沿技術(shù)、高端人才、優(yōu)質(zhì)項(xiàng)目帶到濟(jì)南,共贏未來(lái)。

?張榮?

中國(guó)科學(xué)院院士、廈門(mén)大學(xué)黨委書(shū)記、大會(huì)主席張榮致辭

材料是根本性技術(shù),未來(lái)社會(huì)發(fā)展離不開(kāi)半導(dǎo)體技術(shù)。中國(guó)科學(xué)院院士、廈門(mén)大學(xué)黨委書(shū)記、大會(huì)主席張榮致辭時(shí)表示,新一代半導(dǎo)體晶體技術(shù)既是未來(lái)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要基礎(chǔ),新質(zhì)生產(chǎn)力的代表之一,是支持前沿技術(shù)發(fā)展、國(guó)家安全非常重要的基礎(chǔ)性技術(shù),也是國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)的焦點(diǎn)。張榮對(duì)濟(jì)南市新一代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)取得的發(fā)展成效給予高度評(píng)價(jià),并表示濟(jì)南一直走在國(guó)內(nèi)新一代半導(dǎo)體材料研究前列,尤其是新一代金剛石單晶研究具有優(yōu)勢(shì)。半導(dǎo)體晶體技術(shù)既是研究領(lǐng)域同時(shí)也是產(chǎn)業(yè)化方向,希望產(chǎn)學(xué)研用能緊密結(jié)合,對(duì)我國(guó)新一代半導(dǎo)體晶體產(chǎn)業(yè)和未來(lái)半導(dǎo)體發(fā)展做出貢獻(xiàn)。

?吳主任?

第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟理事長(zhǎng)、大會(huì)主席吳玲致辭

在新的地緣政治形勢(shì)下,全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力格局重塑進(jìn)入歷史關(guān)鍵期,第三代半導(dǎo)體材料是重要突破口,對(duì)于國(guó)家安全、產(chǎn)業(yè)鏈安全都有重要意義。第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟理事長(zhǎng)、大會(huì)主席吳玲致辭時(shí)表示,在綠色、數(shù)字化、智能化的時(shí)代背景下,第三代半導(dǎo)體是頗具前景的發(fā)展賽道,將支持“雙碳”、可持續(xù)發(fā)展,支撐未來(lái)更廣闊的應(yīng)用需求,為新質(zhì)生產(chǎn)力的提升做出貢獻(xiàn)。山東具有良好的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)和優(yōu)勢(shì),希望可以與業(yè)界攜手共同促進(jìn)半導(dǎo)體領(lǐng)域基礎(chǔ)材料的競(jìng)爭(zhēng)力和創(chuàng)新力。

?王洪國(guó)?

山東省科學(xué)技術(shù)廳二級(jí)巡視員王洪國(guó)致辭

近年來(lái)山東聚焦科技自立自強(qiáng),著力打造全國(guó)重要區(qū)域科技創(chuàng)新高地,加快提升科技創(chuàng)新效率,充分發(fā)揮企業(yè)主體作用,形成了一批代表性企業(yè)。山東省科學(xué)技術(shù)廳二級(jí)巡視員王洪國(guó)致辭時(shí)表示,新一代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是集成電路領(lǐng)域的重要組成部分,以8英寸碳化硅北方基地為代表的產(chǎn)業(yè)技術(shù)力量將助力推動(dòng)山東省打造百億級(jí)國(guó)家第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)高地。科技創(chuàng)新是發(fā)展新質(zhì)生產(chǎn)力的核心要素,企業(yè)作為科技創(chuàng)新的主體,是創(chuàng)新成果轉(zhuǎn)化的中心,山東將不斷深化產(chǎn)學(xué)研系統(tǒng)創(chuàng)新,推動(dòng)原創(chuàng)性、顛覆性科技創(chuàng)新成果,相信在各方力量的協(xié)助支持下,可以在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)中搶占先機(jī),也希望與業(yè)界攜手,在新一代半導(dǎo)體材料、器件關(guān)鍵核心材料研發(fā)等領(lǐng)域取得突破,助力高水平科技自立自強(qiáng)。

?蘆延華?

山東大學(xué)黨委常委、副校長(zhǎng)蘆延華致辭

新一代晶體材料是引領(lǐng)新一輪科技革命和產(chǎn)業(yè)變革的關(guān)鍵材料,山東大學(xué)在新一代半導(dǎo)體材料領(lǐng)域一直深入研究攻關(guān),尤其是8英寸碳化硅生長(zhǎng)等關(guān)鍵核心技術(shù)突破,帶動(dòng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)發(fā)展。山東大學(xué)黨委常委、副校長(zhǎng)蘆延華致辭時(shí)表示,山東大學(xué)將繼續(xù)強(qiáng)化技術(shù)科研,加快科技成果轉(zhuǎn)化和應(yīng)用,支撐山東省打造百億級(jí)產(chǎn)業(yè)新高地。山東大學(xué)將繼續(xù)發(fā)揮學(xué)科、人才優(yōu)勢(shì),與新一代半導(dǎo)體強(qiáng)勢(shì)力量一起,瞄準(zhǔn)前沿,強(qiáng)化關(guān)鍵核心技術(shù),產(chǎn)業(yè)共性技術(shù)攻關(guān),為發(fā)展新質(zhì)生產(chǎn)力提供動(dòng)能,支撐科技自立自強(qiáng)。

投產(chǎn)啟動(dòng)儀式?

2023年首批省級(jí)數(shù)字產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)項(xiàng)目“中晶芯源”投產(chǎn)啟動(dòng)儀式舉行

碳化硅半導(dǎo)體是山東大學(xué)晶體材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的核心優(yōu)勢(shì),也是山東省、濟(jì)南市重點(diǎn)布局的高技術(shù)龍頭產(chǎn)業(yè)。2023年5月,南砂晶圓響應(yīng)濟(jì)南市和山東大學(xué)“校地戰(zhàn)略合作”精神,在濟(jì)南市歷城區(qū)注冊(cè)成立“山東中晶芯源半導(dǎo)體科技有限公司”,建設(shè)8英寸碳化硅北方基地,助力山東大學(xué)服務(wù)地方經(jīng)濟(jì)發(fā)展。基于山東大學(xué)豐富的碳化硅技術(shù)積淀和南砂晶圓扎實(shí)的產(chǎn)業(yè)化基礎(chǔ),在山東省、市、區(qū)各級(jí)領(lǐng)導(dǎo)和主管部門(mén)的支持下,公司8英寸碳化硅單晶和襯底項(xiàng)目在2023年12月納入國(guó)家產(chǎn)業(yè)布局。開(kāi)幕式期間,2023年首批省級(jí)數(shù)字產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)項(xiàng)目“中晶芯源”投產(chǎn)啟動(dòng)儀式舉行,南砂晶圓、中晶芯源8英寸碳化硅北方基地正式投產(chǎn)。

材料技術(shù)提升加速 ?持續(xù)賦能產(chǎn)業(yè)應(yīng)用發(fā)展

大會(huì)主旨報(bào)告環(huán)節(jié),七大重量級(jí)報(bào)告,深入探討交流新一代半導(dǎo)體晶體技術(shù)及應(yīng)用的最新進(jìn)展及前沿新方向,共謀創(chuàng)新鏈、產(chǎn)業(yè)鏈融合發(fā)展。第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟副理事長(zhǎng)兼秘書(shū)長(zhǎng)楊富華、廈門(mén)大學(xué)教授康俊勇共同主持了大會(huì)主旨報(bào)告環(huán)節(jié)。

江風(fēng)益?

中國(guó)科學(xué)院院士、南昌大學(xué)教授江風(fēng)益

《V形PN結(jié)銦鎵氮發(fā)光及應(yīng)用》

V形PN結(jié)是一種特殊的結(jié)構(gòu),通常用于InGaN(氮化鎵銦)發(fā)光器件中。V形PN結(jié)結(jié)合了V形結(jié)構(gòu)和InGaN材料的優(yōu)勢(shì),可以提高發(fā)光器件的效率和性能。中國(guó)科學(xué)院院士、南昌大學(xué)教授江風(fēng)益做了“V形PN結(jié)銦鎵氮發(fā)光及應(yīng)用”的主題報(bào)告,分享了最新研究成果,研究提出了銦鎵氮V形PN結(jié)思想,發(fā)現(xiàn)了V缺陷是有益的、能有效減低LED工作電壓/提高發(fā)光效率,建立了V缺陷設(shè)計(jì)制造方法,發(fā)明了高光效黃光LED結(jié)構(gòu)及其工藝技術(shù)和材料生長(zhǎng)高端裝備,有效突破了“黃光鴻溝”難題。創(chuàng)造了無(wú)需經(jīng)過(guò)稀土熒光粉轉(zhuǎn)換的LED照明新產(chǎn)品(無(wú)粉照明),照明光源的人眼舒適度得到提升。V缺陷設(shè)計(jì)制造方法/V形PN結(jié)思想及架構(gòu)有效推動(dòng)了藍(lán)寶石藍(lán)光、綠光、黃光、紅光LED工作電壓降低和光效提升。

沈波?

北京大學(xué)理學(xué)部副主任、教授沈波

《AlN體單晶材料和外延材料的制備》

AlN具有超寬的直接帶隙 (6.2 eV)、高擊穿場(chǎng)強(qiáng)等諸多優(yōu)點(diǎn),具有既實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量氮化物半導(dǎo)體同質(zhì)外延生長(zhǎng),又滿足高功率密度器件散熱需求的優(yōu)勢(shì),在紫外光電器件、微波毫米波器件、功率電子器件、射頻濾波器等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用價(jià)值。?北京大學(xué)理學(xué)部副主任、教授沈波做了“AlN體單晶材料和外延材料的制備”的主題報(bào)告,分享了北京大學(xué)近年來(lái)圍繞高質(zhì)量AlN單晶襯底和外延薄膜的獲得開(kāi)展的系統(tǒng)工作的研究進(jìn)展與成果,通過(guò)自行研制的PVT專用設(shè)備,解決了一系列技術(shù)難題,成功研制出2英寸AlN晶體和襯底晶片,初步制備出4英寸AlN晶體。發(fā)明數(shù)種藍(lán)寶石襯底上AlN外延方法,NPSS襯底上AlN外延層X(jué)RD搖擺曲線半高寬達(dá)132(002)/140(102)arcsec,NPAT襯底上AlN外延層位錯(cuò)腐蝕坑密度降低到?~104 cm-2。

?嚴(yán)飛1

芯聯(lián)集成電路制造股份有限公司副總裁嚴(yán)飛

《SiC大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化》

碳化硅材料、工藝、應(yīng)用突破難度高,需要全產(chǎn)業(yè)鏈齊心協(xié)力推進(jìn)低成本、高質(zhì)量、大批量的產(chǎn)業(yè)化。芯聯(lián)集成電路制造股份有限公司副總裁嚴(yán)飛做了“SiC大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化”的主題報(bào)告,報(bào)告指出,SiC方案能顯著提升能效,能夠通過(guò)產(chǎn)業(yè)化和持續(xù)創(chuàng)新消除溢價(jià),是中高壓大功率應(yīng)用最好的選擇,將承擔(dān)最大的增長(zhǎng)。SiC產(chǎn)業(yè)鏈條即將跨越“臨界點(diǎn)”。通過(guò)材料/器件/封裝/系統(tǒng)的全產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新,全SiC方案效益成本比將劇烈提升,從而消除了大規(guī)模應(yīng)用的成本障礙,即使不考慮性能和系統(tǒng)上的改善,能源費(fèi)用的節(jié)省就足以支付SiC相對(duì)于Si方案的成本增加。

陳秀芳?

山東大學(xué)教授、南砂晶圓總經(jīng)理陳秀芳

《低缺陷碳化硅單晶進(jìn)展及展望》

近年來(lái) SiC 襯底廠商加速推進(jìn) 8 英寸襯底的研發(fā)和量產(chǎn)進(jìn)度。山東大學(xué)教授、南砂晶圓總經(jīng)理陳秀芳做了“低缺陷碳化硅單晶進(jìn)展及展望”的主題報(bào)告,分享了導(dǎo)電型碳化硅單晶和半絕緣碳化硅單晶的最新研究進(jìn)展。報(bào)告顯示,目前山東大學(xué)6英寸導(dǎo)電型和半絕緣SiC襯底已大規(guī)模量產(chǎn)和應(yīng)用,8英寸導(dǎo)電型襯底已開(kāi)始產(chǎn)業(yè)化。制備了8英寸半絕緣4H-SiC晶體,加工出了8英寸4H-SiC襯底,經(jīng)拉曼測(cè)試,4H晶型面積比例達(dá)到100%,無(wú)6H和15R等多型夾雜。

?劉紅超

長(zhǎng)飛先進(jìn)半導(dǎo)體副總裁、首席科學(xué)家劉紅超

《SiC材料缺陷對(duì)器件和良率影響》

SiC是優(yōu)選的功率半導(dǎo)體材料,具有高能源投入產(chǎn)出比,在電子器件中使用越來(lái)越廣泛,但其制造過(guò)程中的缺陷會(huì)直接影響器件性能和良率。長(zhǎng)飛先進(jìn)半導(dǎo)體副總裁、首席科學(xué)家劉紅超做了“SIC材料缺陷對(duì)器件和良率影響”的主題報(bào)告,分享了相關(guān)研究進(jìn)展與成果,涉及缺陷增長(zhǎng)路徑、設(shè)備性能缺陷、缺陷引起的可靠性雙極退化、近界面氧化物陷阱引起的缺陷可靠性Vth漂移等。報(bào)告指出,降低缺陷密度是一個(gè)漫長(zhǎng)的過(guò)程,從提高材料質(zhì)量、優(yōu)化晶圓和組裝工藝都是如此。缺陷可以來(lái)自于外延、工藝和組裝等。

?王鋼?

中山大學(xué)教授王鋼

《基于金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積的ε-Ga2O3薄膜摻雜研究》

ε-Ga2O3是一種具有優(yōu)良電子傳輸性能和寬帶隙的材料,通常用于高功率電子器件的制造。在金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)技術(shù)中,摻雜研究可以針對(duì)改善材料的電學(xué)特性和性能進(jìn)行調(diào)控。中山大學(xué)教授王鋼做了“基于金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積的ε-Ga2O3薄膜摻雜研究”的主題報(bào)告,分享了相關(guān)研究成果,報(bào)告顯示,研究通過(guò)H2O作為氧源+兩步法+大切角襯底技術(shù),在c面藍(lán)寶石襯底上實(shí)現(xiàn)了大尺寸、高質(zhì)量ε-Ga2O3異質(zhì)外延:半高寬可以低至約400arcsec,表面為臺(tái)階流生長(zhǎng)!通過(guò)ε-Ga2O3表面F摻雜,獲得高達(dá)~1014/cn2的電子面密度,具有類2DEG特性,方塊電阻可達(dá)1215Ω/sq:制備的高耐壓MOSFET器件,擊穿電壓可達(dá)2.85kV,導(dǎo)通電阻110Qmm,PFOM達(dá)到0.29 GW/cm2.處于領(lǐng)先水平!通過(guò)ε-Ga2O3的Si摻雜,可以實(shí)現(xiàn)1017~1019大范圍載流子濃度調(diào)控電陽(yáng)率最低可達(dá)0.09Ω-cm 遷移率最高6.7cm2/(V.s),各項(xiàng)電學(xué)指標(biāo)均優(yōu)越;并且制備的SBD器件具有整流特性,在未來(lái)大功率器件應(yīng)用上具有廣闊的應(yīng)用前景。

朱振

山東華光光電子股份有限公司研發(fā)部部長(zhǎng)朱振

《高功率半導(dǎo)體激光器核心外延材料及芯片研究進(jìn)展》

高功率半導(dǎo)體激光器的核心外延材料及芯片研究一直是半導(dǎo)體激光器領(lǐng)域的重要研究方向。山東華光光電子股份有限公司研發(fā)部部長(zhǎng)朱振做了“高功率半導(dǎo)體激光器核心外延材料及芯片研究進(jìn)展”的主題報(bào)告,分享了高功率半導(dǎo)體激光芯片核心技術(shù)以及高功率半導(dǎo)體激光芯片研究進(jìn)展。報(bào)告指出,目前主流的紅光6xx nm使用AlGaInP/GaInP材料,近紅外9xx nm使用AlGaAs/InGaAs材料。~800nm的近紅外波段,Ga(In)AsP和Al(In)GaAs材料體系均可實(shí)現(xiàn)。其中AlGaAs材料更容易控制組分和均勻性,可以做到更高效率輸出。而GaInAsP材料不含Al,可靠性更優(yōu)。華光是國(guó)內(nèi)較早實(shí)現(xiàn)紅光激光器產(chǎn)業(yè)化的企業(yè),單模5-10mW占據(jù)國(guó)內(nèi)50%的市場(chǎng)。近期研發(fā)的單模650nm 10mW芯片突破85℃高溫考評(píng),進(jìn)入車規(guī)市場(chǎng)。單模650nm高功率芯片突破100mW,多模雙點(diǎn)2.5W芯片在功率及轉(zhuǎn)換效率上同日本標(biāo)桿接近。報(bào)告認(rèn)為,高功率半導(dǎo)體激光器芯片在市場(chǎng)需求牽引下發(fā)展迅速,已經(jīng)突破影響激光器的壽命和可靠性問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)了從材料、芯片、模組全鏈條產(chǎn)業(yè)化。芯片國(guó)產(chǎn)化是必然趨勢(shì),隨著成本及價(jià)格的降低,市場(chǎng)會(huì)進(jìn)一步擴(kuò)大,競(jìng)爭(zhēng)會(huì)更加激烈。

?會(huì)議現(xiàn)場(chǎng)3

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本次論壇除開(kāi)幕大會(huì),兩天時(shí)間里,還設(shè)置了四大主題平行論壇,圍繞“碳化硅晶體及其應(yīng)用”、“氮化鎵、超寬禁帶晶體及其應(yīng)用“、“砷化鎵、磷化銦晶體及激光器技術(shù)”、“金剛石和半導(dǎo)體測(cè)試技術(shù)”等主題方向,來(lái)自產(chǎn)業(yè)鏈的企業(yè)及高校科研院所的實(shí)力派嘉賓代表將深入研討,攜手促進(jìn)新一代半導(dǎo)體晶體技術(shù)進(jìn)展及未來(lái)發(fā)展趨勢(shì),分享前沿研究成果,攜手助力我國(guó)新一代半導(dǎo)體晶體技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)發(fā)展。

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?論壇同期還設(shè)置了主題展覽,交流晚宴、商務(wù)考察等線上線下豐富的活動(dòng)形式,凝心聚力,助力對(duì)接資源,洽談合作。論壇期間,組織安排嘉賓代表們有意向的走訪中晶芯源、浪潮集團(tuán)/華光光電等,實(shí)地了解,探討更多合作可能。?

CASICON 系列活動(dòng)簡(jiǎn)介

“先進(jìn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)大會(huì)(CASICON)” 是由【極智半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)】主辦,每年在全國(guó)巡回舉辦的行業(yè)綜合活動(dòng)。活動(dòng)聚焦先進(jìn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展熱點(diǎn)領(lǐng)域與應(yīng)用方向,聚合產(chǎn)業(yè)相關(guān)各方訴求,通過(guò)“主題會(huì)議+項(xiàng)目路演+展覽”等形式,促進(jìn)參與各方交流合作,積極推動(dòng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展。CASICON 系列活動(dòng)將以助力第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展為己任,持續(xù)輸出高質(zhì)量的活動(dòng)內(nèi)容,搭建更好的交流平臺(tái),為產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻(xiàn)應(yīng)盡的力量。

根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)內(nèi)容整理? 供參考,更多會(huì)議詳細(xì)信息,敬請(qǐng)關(guān)注半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)!

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