天眼查顯示，北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司“一種腔室清潔方法及半導(dǎo)體工藝設(shè)備”專利公布，申請(qǐng)公布日為2024年11月29日，申請(qǐng)公布號(hào)為CN119050039A。

本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N腔室清潔方法及半導(dǎo)體工藝設(shè)備，該方法包括在工藝腔室中的靜電卡盤(pán)滿足電荷清潔的觸發(fā)條件時(shí)獲取擋板的當(dāng)前狀態(tài)，并基于擋板的當(dāng)前狀態(tài)以及工藝腔室的第一目標(biāo)狀態(tài)確定擋板滿足移出條件時(shí)控制擋板移出工藝腔室，以在工藝腔室的當(dāng)前狀態(tài)達(dá)到第一目標(biāo)狀態(tài)時(shí)控制工藝腔室執(zhí)行電荷清潔，電荷清潔用于中和靜電卡盤(pán)的殘余電荷，從而能夠自動(dòng)將擋板移出工藝腔室以及自動(dòng)執(zhí)行電荷清潔，極大提高了靜電卡盤(pán)中殘余電荷的清潔效率，且無(wú)需人工參與，降低了殘余電荷清潔過(guò)程中的人力成本。同時(shí)，通過(guò)將擋板移出工藝腔室能夠有效避免擋板對(duì)靜電卡盤(pán)的殘余電荷清潔效果的影響，保證了對(duì)靜電卡盤(pán)中的殘余電荷進(jìn)行自動(dòng)清潔時(shí)的清潔效果。