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華海清科“驅動機構的保濕控制方法、晶圓清洗裝置、存儲介質”專利公布

發表于:2024-10-25 來源:半導體產業網 編輯:

天眼查顯示,華海清科股份有限公司“驅動機構的保濕控制方法、晶圓清洗裝置、存儲介質”專利公布,申請公布日為2024年9月24日,申請公布號為CN118692981A。 

本申請提供了一種驅動機構的保濕控制方法、晶圓清洗裝置、存儲介質,驅動機構的保濕控制方法包括:確定輪體的狀態,輪體的狀態包括工作狀態和待機狀態;若輪體處于工作狀態,控制流體以第一保濕模式流入第一流道,以對輪體進行保濕;若輪體處于待機狀態,控制流體以第二保濕模式流入第一流道,以對輪體進行保濕,其中,第一保濕模式與第二保濕模式不同。本申請通過驅動機構的旋轉軸內部的第一流道向輪體內部的第二流道輸送流體,流體從輪體的外緣流出,對晶圓與輪體的接觸位置進行清洗,避免晶圓邊緣出現磨損或污染;針對輪體的不同工作狀態,靈活切換不同的保濕模式,無需單獨對輪體進行噴淋保濕,節約流體用量。

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