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北方華創“一種進氣管的清洗方法及半導體工藝設備”專利公布

發表于:2024-10-25 來源:半導體產業網 編輯:

天眼查顯示,北京北方華創微電子裝備有限公司“一種進氣管的清洗方法及半導體工藝設備”專利公布,申請公布日為2024年9月24日,申請公布號為CN118692884A。

本申請公開了一種進氣管的清洗方法及半導體工藝設備,進氣管作為等離子體發生腔,并用于向工藝腔室通入等離子體以對晶圓進行工藝,清洗方法包括:在每完成預設數量的晶圓的工藝后,向進氣管通入第一清洗氣體,并加載射頻功率以激發第一清洗氣體;控制進氣管內的氣壓在第一預設壓力維持第一預設時間,以及在第二預設壓力維持第二預設時間,第一預設壓力與第二預設壓力的比值大于等于6且小于等于14,第一預設時間與第二預設時間的比值大于等于0.5且小于等于2。本申請通過對進氣管進行批次間清洗,可以對雜質顆粒進行清洗,避免產生花狀缺陷,由于析晶得到及時清洗,不需要經常停機更換進氣管,延長了進氣管的壽命,成本降低,提高了生產率。

 

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